كتلة معالجة خبث السيليكون 10-100 مم

المحتوى: 30%، 40%، 45%، 50%، 65% حجم الجسيمات: 0-3 مم، 0-12 مم، 10-100 مم

إرسال التحقيق

الوصف

ZhenAn International Co., Limited هي واحدة من الشركات المصنعة والموردة الأكثر موثوقية لكتلة معالجة خبث السيليكون 10-100 مم في الصين. مع خبرة وفيرة، نرحب بكم ترحيبا حارا في كتلة معالجة خبث السيليكون 10-100 مم بالجملة المتوفرة في المخزون هنا من مصنعنا. تتوفر منتجات ذات جودة عالية وسعر معقول.

وصف المنتجات

السيليكون الصناعي هو المادة الخام الأساسية لسبائك السيليكون، والسيليكون العضوي، والسيليكون من الدرجة الشمسية-. ويستخدم على نطاق واسع في الدفاع الوطني والفضاء والإلكترونيات والطاقة الجديدة وغيرها من الصناعات. ويلعب دورا لا يمكن الاستغناء عنه في الاقتصاد الوطني. وقد بلغ إنتاجها السنوي أكثر من 230 طنا.

من أجل تلبية متطلبات منتجات السيليكون-عالية النقاء، يحتاج السيليكون الصناعي إلى زيادة عمليات النفخ والتكرير. في هذه العملية، بسبب إدخال الأكسجين، سيتم إنتاج كمية كبيرة من خبث السيليكون. خلال هذه العملية، سيتم تغليف 15-20% من السيليكون الصناعي في الخبث.

في الوقت الحاضر، يتم تخزين خبث السيليكون بشكل أساسي كخبث نفايات لفترة طويلة، أو كمواد رصف أو كمواد أساسية في صناعة المسابك، مما أدى إلى سلسلة من المشاكل البيئية وتسبب في خسارة كبيرة لموارد السيليكون، مما أثر بشكل خطير على الفوائد الاقتصادية للمؤسسات. من أجل تحقيق التنمية المستدامة للموارد والبيئة، فمن الوشيك دراسة تكنولوجيا الاستخدام الشامل لخبث السيليكون.

في السنوات الأخيرة، أولت شركات السيليكون الصناعية والعلماء المزيد والمزيد من الاهتمام للبحث وتطبيق تكنولوجيا إعادة تدوير خبث السيليكون. وقد وجد في البحث أن خبث السيليكون له أطوار معقدة، والتي تحتوي على أطوار السيليكون مثل عنصر السيليكون، وكربيد السيليكون، والسيليكات. في الوقت الحاضر، يتم اكتشاف السيليكون بشكل أساسي لتحليل محتوى العنصر في السيليكون الصناعي.

طريقة الكشف عن محتوى عنصر السيليكون في المركب.

بما في ذلك قياس الطيف الفلوري للأشعة السينية (xrf) لتحديد محتوى العنصر (14849.5-2014)، والقياس الطيفي للانبعاث الذري للبلازما المقترنة حثيًا (ico-aes) لتحديد محتوى العنصر (14849.4-2014) وطريقة امتصاص الأشعة تحت الحمراء (ftir) لتحديد محتوى الكربون (14849.6-2014)، وما إلى ذلك.

كما اقترح المعيار الياباني jisg2312-1986 والمعيار الأمريكي astma922-2005 معايير تحليلية للتركيب الكيميائي للسيليكون الصناعي. معايير التحليل الكيميائي المذكورة أعلاه للسيليكون الصناعي في الداخل والخارج كلها مخصصة لتحليل محتوى الشوائب في السيليكون الصناعي، ولكن طرق اختبار محتوى عنصر السيليكون في مكونات مرحلة السيليكون المعقدة (خبث السيليكون) غير متضمنة. في الوقت الحاضر، لا يمكن الحصول على محتوى عنصر السيليكون في خبث السيليكون بالطرق التقليدية مثل xrd وxrf وicp، ولكنها أصبحت مشكلة رئيسية تقيد تطوير تكنولوجيا البحث لإعادة تدوير السيليكون الصناعي في خبث السيليكون.

Silicon metal slag

Silicon slag

وصف المنتجات

كود الحديد والسيليكون	التركيب الكيميائي (٪)
	سي	من	كر	C	P	S
FeSi75A	74.0-80.0	أقل من أو يساوي 0.4	أقل من أو يساوي 0.3	أقل من أو يساوي 0.1	أقل من أو يساوي 0.035	أقل من أو يساوي 0.02
FeSi75B	72.0-80.0	أقل من أو يساوي 0.4	أقل من أو يساوي 0.3	أقل من أو يساوي 0.1	أقل من أو يساوي 0.04	أقل من أو يساوي 0.02
FeSi75C	70.0-80.0	أقل من أو يساوي 0.5	أقل من أو يساوي 0.5	أقل من أو يساوي 0.2	أقل من أو يساوي 0.04	أقل من أو يساوي 0.02
FeSi65	65.0-72.0	أقل من أو يساوي 0.6	أقل من أو يساوي 0.5	أقل من أو يساوي 0.2	أقل من أو يساوي 0.04	أقل من أو يساوي 0.02